Skip navigation

putin IS MURDERER

Please use this identifier to cite or link to this item: https://oldena.lpnu.ua/handle/ntb/47522
Title: Вплив розподілу струму розряду по катоду комірки Пеннінга на рівномірність напилених плівок
Other Titles: The influence of the cathode current distribution in Penning’s cell on the sputtered films
Authors: Шандра, З. А.
Shandra, Z. A.
Affiliation: Національний університет “Львівська політехніка”
Bibliographic description (Ukraine): Шандра З. А. Вплив розподілу струму розряду по катоду комірки Пеннінга на рівномірність напилених плівок / З. А. Шандра // Вісник Національного університету “Львівська політехніка”. — Львів : Видавництво Національного університету “Львівська політехніка”, 2005. — № 532 : Електроніка. — С. 42–47.
Bibliographic description (International): Shandra Z. A. The influence of the cathode current distribution in Penning’s cell on the sputtered films / Z. A. Shandra // Visnyk Natsionalnoho universytetu "Lvivska politekhnika". — Lviv : Vydavnytstvo Natsionalnoho universytetu "Lvivska politekhnika", 2005. — No 532 : Elektronika. — P. 42–47.
Is part of: Вісник Національного університету “Львівська політехніка”, 532 : Електроніка, 2005
Journal/Collection: Вісник Національного університету “Львівська політехніка”
Issue: 532 : Електроніка
Issue Date: 1-Mar-2005
Publisher: Видавництво Національного університету “Львівська політехніка”
Place of the edition/event: Львів
Lviv
UDC: 621.793.1
Number of pages: 6
Page range: 42-47
Start page: 42
End page: 47
Abstract: Подано результати дослідження розподілу струму розряду по поверхні катода в комірці Пеннінга з прямокутним анодом. Виявлено, що при тиску газу близько 0,01 Па максимальна густина струму спостерігається в центрі катода. У разі збільшення тиску газу зростає густина струму на периферії катода. Розподіл струму по висоті катода можна апроксимувати функцією Jp(h) = n +(1-n) sin(πh/a), де а – розмір катода. Виконано моделювання впливу розподілу струму на рівномірність напилених плівок для різних тисків газу. Аналіз показує, що нерівномірність струму по катоду погіршує рівномірність плівок по товщині на краях підкладки.
The results of experimental investigation of the cathode current distribution in Penning’s cell with rectangular anode are presented. The maximum current density in cathode center observed under the gas pressure about 0.01 Pa. The current density at the cathode periphery increased with increasing the gas pressure. The current distribution on cathode height can be approximated function (a – the cathode size). The simulation of the current distribution influence on the sputtered films uniformity for different gas pressure is carried out. The analysis show that the current non-uniformity over the cathode decreases the film thickness uniformity at the substrate edge.
URI: https://ena.lpnu.ua/handle/ntb/47522
Copyright owner: © Національний університет “Львівська політехніка”, 2005
© Шандра З. А., 2005
References (Ukraine): 1. Данилин Б.С. Применение низкотемпературной плазмы для нанесения тонких пленок. – М., 1989.
2. Крейндель Ю.Е. Плазменные источники электронов. – М., 1977.
3. Битнер Л.Р., Ведерников В.А., Данилина Т.И., Маняхина Г.В., Шандра З.А. // Изв. ВУЗов. Физика, № 12, 1976. – С. 11–15.
4. Агафонникова Е.В., Шандра З.А.// Сверхпроводимость: физика, химия, техника, №1, 1992. – С. 123–127.
5. Шандра З.А.// Вiснику ДУ “Львiвська полiтехнiка”, 2004, № 512. – С.8–-86.
6. Баберцян Р.П., Бадалян Э.С., Егназарян Г.А., Тер-Геворкян Э.И., Оганнисян В.Н.// ЖТФ, №4, 2000. – С.24–28.
References (International): 1. Danilin B.S. Primenenie nizkotemperaturnoi plazmy dlia naneseniia tonkikh plenok, M., 1989.
2. Kreindel Iu.E. Plazmennye istochniki elektronov, M., 1977.
3. Bitner L.R., Vedernikov V.A., Danilina T.I., Maniakhina H.V., Shandra Z.A., Izv. VUZov. Fizika, No 12, 1976, P. 11–15.
4. Ahafonnikova E.V., Shandra Z.A.// Sverkhprovodimost: fizika, khimiia, tekhnika, No 1, 1992, P. 123–127.
5. Shandra Z.A.// Visniku DU "Lvivska politekhnika", 2004, No 512, P.8–-86.
6. Babertsian R.P., Badalian E.S., Ehnazarian H.A., Ter-Hevorkian E.I., Ohannisian V.N.// ZhTF, No 4, 2000, P.24–28.
Content type: Article
Appears in Collections:Електроніка. – 2005. – №532

Files in This Item:
File Description SizeFormat 
2005n532_Shandra_Z_A-The_influence_of_the_cathode_42-47.pdf2.03 MBAdobe PDFView/Open
2005n532_Shandra_Z_A-The_influence_of_the_cathode_42-47__COVER.png431.78 kBimage/pngView/Open
Show full item record


Items in DSpace are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.