Skip navigation

putin IS MURDERER

Please use this identifier to cite or link to this item: https://oldena.lpnu.ua/handle/ntb/47522
Full metadata record
DC FieldValueLanguage
dc.contributor.authorШандра, З. А.
dc.contributor.authorShandra, Z. A.
dc.date.accessioned2020-03-20T07:36:38Z-
dc.date.available2020-03-20T07:36:38Z-
dc.date.created2005-03-01
dc.date.issued2005-03-01
dc.identifier.citationШандра З. А. Вплив розподілу струму розряду по катоду комірки Пеннінга на рівномірність напилених плівок / З. А. Шандра // Вісник Національного університету “Львівська політехніка”. — Львів : Видавництво Національного університету “Львівська політехніка”, 2005. — № 532 : Електроніка. — С. 42–47.
dc.identifier.urihttps://ena.lpnu.ua/handle/ntb/47522-
dc.description.abstractПодано результати дослідження розподілу струму розряду по поверхні катода в комірці Пеннінга з прямокутним анодом. Виявлено, що при тиску газу близько 0,01 Па максимальна густина струму спостерігається в центрі катода. У разі збільшення тиску газу зростає густина струму на периферії катода. Розподіл струму по висоті катода можна апроксимувати функцією Jp(h) = n +(1-n) sin(πh/a), де а – розмір катода. Виконано моделювання впливу розподілу струму на рівномірність напилених плівок для різних тисків газу. Аналіз показує, що нерівномірність струму по катоду погіршує рівномірність плівок по товщині на краях підкладки.
dc.description.abstractThe results of experimental investigation of the cathode current distribution in Penning’s cell with rectangular anode are presented. The maximum current density in cathode center observed under the gas pressure about 0.01 Pa. The current density at the cathode periphery increased with increasing the gas pressure. The current distribution on cathode height can be approximated function (a – the cathode size). The simulation of the current distribution influence on the sputtered films uniformity for different gas pressure is carried out. The analysis show that the current non-uniformity over the cathode decreases the film thickness uniformity at the substrate edge.
dc.format.extent42-47
dc.language.isouk
dc.publisherВидавництво Національного університету “Львівська політехніка”
dc.relation.ispartofВісник Національного університету “Львівська політехніка”, 532 : Електроніка, 2005
dc.titleВплив розподілу струму розряду по катоду комірки Пеннінга на рівномірність напилених плівок
dc.title.alternativeThe influence of the cathode current distribution in Penning’s cell on the sputtered films
dc.typeArticle
dc.rights.holder© Національний університет “Львівська політехніка”, 2005
dc.rights.holder© Шандра З. А., 2005
dc.contributor.affiliationНаціональний університет “Львівська політехніка”
dc.format.pages6
dc.identifier.citationenShandra Z. A. The influence of the cathode current distribution in Penning’s cell on the sputtered films / Z. A. Shandra // Visnyk Natsionalnoho universytetu "Lvivska politekhnika". — Lviv : Vydavnytstvo Natsionalnoho universytetu "Lvivska politekhnika", 2005. — No 532 : Elektronika. — P. 42–47.
dc.relation.references1. Данилин Б.С. Применение низкотемпературной плазмы для нанесения тонких пленок. – М., 1989.
dc.relation.references2. Крейндель Ю.Е. Плазменные источники электронов. – М., 1977.
dc.relation.references3. Битнер Л.Р., Ведерников В.А., Данилина Т.И., Маняхина Г.В., Шандра З.А. // Изв. ВУЗов. Физика, № 12, 1976. – С. 11–15.
dc.relation.references4. Агафонникова Е.В., Шандра З.А.// Сверхпроводимость: физика, химия, техника, №1, 1992. – С. 123–127.
dc.relation.references5. Шандра З.А.// Вiснику ДУ “Львiвська полiтехнiка”, 2004, № 512. – С.8–-86.
dc.relation.references6. Баберцян Р.П., Бадалян Э.С., Егназарян Г.А., Тер-Геворкян Э.И., Оганнисян В.Н.// ЖТФ, №4, 2000. – С.24–28.
dc.relation.referencesen1. Danilin B.S. Primenenie nizkotemperaturnoi plazmy dlia naneseniia tonkikh plenok, M., 1989.
dc.relation.referencesen2. Kreindel Iu.E. Plazmennye istochniki elektronov, M., 1977.
dc.relation.referencesen3. Bitner L.R., Vedernikov V.A., Danilina T.I., Maniakhina H.V., Shandra Z.A., Izv. VUZov. Fizika, No 12, 1976, P. 11–15.
dc.relation.referencesen4. Ahafonnikova E.V., Shandra Z.A.// Sverkhprovodimost: fizika, khimiia, tekhnika, No 1, 1992, P. 123–127.
dc.relation.referencesen5. Shandra Z.A.// Visniku DU "Lvivska politekhnika", 2004, No 512, P.8–-86.
dc.relation.referencesen6. Babertsian R.P., Badalian E.S., Ehnazarian H.A., Ter-Hevorkian E.I., Ohannisian V.N.// ZhTF, No 4, 2000, P.24–28.
dc.citation.journalTitleВісник Національного університету “Львівська політехніка”
dc.citation.issue532 : Електроніка
dc.citation.spage42
dc.citation.epage47
dc.coverage.placenameЛьвів
dc.coverage.placenameLviv
dc.subject.udc621.793.1
Appears in Collections:Електроніка. – 2005. – №532

Files in This Item:
File Description SizeFormat 
2005n532_Shandra_Z_A-The_influence_of_the_cathode_42-47.pdf2.03 MBAdobe PDFView/Open
2005n532_Shandra_Z_A-The_influence_of_the_cathode_42-47__COVER.png431.78 kBimage/pngView/Open
Show simple item record


Items in DSpace are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.