DC Field | Value | Language |
dc.contributor.author | Шандра, З. А. | |
dc.contributor.author | Shandra, Z. A. | |
dc.date.accessioned | 2020-03-20T07:36:38Z | - |
dc.date.available | 2020-03-20T07:36:38Z | - |
dc.date.created | 2005-03-01 | |
dc.date.issued | 2005-03-01 | |
dc.identifier.citation | Шандра З. А. Вплив розподілу струму розряду по катоду комірки Пеннінга на рівномірність напилених плівок / З. А. Шандра // Вісник Національного університету “Львівська політехніка”. — Львів : Видавництво Національного університету “Львівська політехніка”, 2005. — № 532 : Електроніка. — С. 42–47. | |
dc.identifier.uri | https://ena.lpnu.ua/handle/ntb/47522 | - |
dc.description.abstract | Подано результати дослідження розподілу струму розряду по поверхні катода в
комірці Пеннінга з прямокутним анодом. Виявлено, що при тиску газу близько 0,01 Па
максимальна густина струму спостерігається в центрі катода. У разі збільшення тиску
газу зростає густина струму на периферії катода. Розподіл струму по висоті катода
можна апроксимувати функцією Jp(h) = n +(1-n) sin(πh/a), де а – розмір катода. Виконано
моделювання впливу розподілу струму на рівномірність напилених плівок для різних
тисків газу. Аналіз показує, що нерівномірність струму по катоду погіршує
рівномірність плівок по товщині на краях підкладки. | |
dc.description.abstract | The results of experimental investigation of the cathode current distribution in
Penning’s cell with rectangular anode are presented. The maximum current density in cathode
center observed under the gas pressure about 0.01 Pa. The current density at the cathode
periphery increased with increasing the gas pressure. The current distribution on cathode
height can be approximated function (a – the cathode size). The simulation of the current
distribution influence on the sputtered films uniformity for different gas pressure is carried
out. The analysis show that the current non-uniformity over the cathode decreases the film
thickness uniformity at the substrate edge. | |
dc.format.extent | 42-47 | |
dc.language.iso | uk | |
dc.publisher | Видавництво Національного університету “Львівська політехніка” | |
dc.relation.ispartof | Вісник Національного університету “Львівська політехніка”, 532 : Електроніка, 2005 | |
dc.title | Вплив розподілу струму розряду по катоду комірки Пеннінга на рівномірність напилених плівок | |
dc.title.alternative | The influence of the cathode current distribution in Penning’s cell on the sputtered films | |
dc.type | Article | |
dc.rights.holder | © Національний університет “Львівська політехніка”, 2005 | |
dc.rights.holder | © Шандра З. А., 2005 | |
dc.contributor.affiliation | Національний університет “Львівська політехніка” | |
dc.format.pages | 6 | |
dc.identifier.citationen | Shandra Z. A. The influence of the cathode current distribution in Penning’s cell on the sputtered films / Z. A. Shandra // Visnyk Natsionalnoho universytetu "Lvivska politekhnika". — Lviv : Vydavnytstvo Natsionalnoho universytetu "Lvivska politekhnika", 2005. — No 532 : Elektronika. — P. 42–47. | |
dc.relation.references | 1. Данилин Б.С. Применение низкотемпературной плазмы для нанесения тонких пленок. – М., 1989. | |
dc.relation.references | 2. Крейндель Ю.Е. Плазменные источники электронов. – М., 1977. | |
dc.relation.references | 3. Битнер Л.Р., Ведерников В.А., Данилина Т.И., Маняхина Г.В., Шандра З.А. // Изв. ВУЗов. Физика, № 12, 1976. – С. 11–15. | |
dc.relation.references | 4. Агафонникова Е.В., Шандра З.А.// Сверхпроводимость: физика, химия, техника, №1, 1992. – С. 123–127. | |
dc.relation.references | 5. Шандра З.А.// Вiснику ДУ “Львiвська полiтехнiка”, 2004, № 512. – С.8–-86. | |
dc.relation.references | 6. Баберцян Р.П., Бадалян Э.С., Егназарян Г.А., Тер-Геворкян Э.И., Оганнисян В.Н.// ЖТФ, №4, 2000. – С.24–28. | |
dc.relation.referencesen | 1. Danilin B.S. Primenenie nizkotemperaturnoi plazmy dlia naneseniia tonkikh plenok, M., 1989. | |
dc.relation.referencesen | 2. Kreindel Iu.E. Plazmennye istochniki elektronov, M., 1977. | |
dc.relation.referencesen | 3. Bitner L.R., Vedernikov V.A., Danilina T.I., Maniakhina H.V., Shandra Z.A., Izv. VUZov. Fizika, No 12, 1976, P. 11–15. | |
dc.relation.referencesen | 4. Ahafonnikova E.V., Shandra Z.A.// Sverkhprovodimost: fizika, khimiia, tekhnika, No 1, 1992, P. 123–127. | |
dc.relation.referencesen | 5. Shandra Z.A.// Visniku DU "Lvivska politekhnika", 2004, No 512, P.8–-86. | |
dc.relation.referencesen | 6. Babertsian R.P., Badalian E.S., Ehnazarian H.A., Ter-Hevorkian E.I., Ohannisian V.N.// ZhTF, No 4, 2000, P.24–28. | |
dc.citation.journalTitle | Вісник Національного університету “Львівська політехніка” | |
dc.citation.issue | 532 : Електроніка | |
dc.citation.spage | 42 | |
dc.citation.epage | 47 | |
dc.coverage.placename | Львів | |
dc.coverage.placename | Lviv | |
dc.subject.udc | 621.793.1 | |
Appears in Collections: | Електроніка. – 2005. – №532
|