https://oldena.lpnu.ua/handle/ntb/42502
Title: | Низькотемпературний транспорт носіїв заряду в складнолегованих ниткоподібних кристалах Sі-Gе |
Other Titles: | Low temperature transport of charge carrsers in Si-Ge whiskers with complex doping |
Authors: | Дружинін, А. О. Лавитська, О. М. Варшава, С. С. Островський, І. П. Лях, Н. |
Affiliation: | Національний університет "Львівська політехніка" |
Bibliographic description (Ukraine): | Низькотемпературний транспорт носіїв заряду в складнолегованих ниткоподібних кристалах Sі-Gе / А. О. Дружинін, О. М. Лавитська, С. С. Варшава, І. П. Островський, Н. Лях // Вісник Національного університету "Львівська політехніка". – 2001. – № 423 : Електроніка. – С. 76–80. – Бібліографія: 11 назв. |
Journal/Collection: | Електроніка |
Issue Date: | 2001 |
Publisher: | Видавництво Національного університету "Львівська політехніка" |
Country (code): | UA |
Place of the edition/event: | Львів |
UDC: | 621.315.592 |
Number of pages: | 76–80 |
Abstract: | Вивченно електричні параметри НК Si-Ge в температурній області 4,2-300 К. Досліджено НК Si-Ge з вмістом Ge до 3 ат.%, вирощених в легуючих системах з домішками B+Au, Zn+Au, Hf+Au, Ni+Mn+Pt. Оцінено енергії активації 0,018 та 0,32 еВ у кристалах, легованих B і Zn, відповідно. У НК проявляються мікро- та макронеоднорідності. Встановлено, що НК, вирощені з домішками Hf та Au, є фоточутливі. The present paper deals with a study of Si-Ge whisker in the temperature range 4.2-300K. Si-Ge whiskers with compositions (up to 3at.% Ge) grown in doped system of B+Au, Zn+Au, Hf+Au, Ni+Mn+Pt were under investigation. Activation energies 0,018 and 0.32eV of crystals doped with B, Zn impurities, respectively, were calculated. Micro- and macro-inhomogeneties are found in the whiskers. The whiskers doped with Hf and Au was shown to be photosensitive. |
URI: | https://ena.lpnu.ua/handle/ntb/42502 |
Copyright owner: | © Дружинін A.O., Лавитська O.M., Варшава C.C., Островський І.П., Лях Н., 2001 |
References (Ukraine): | 1. Бакиров М.Я. Электронные приборы на основе твердых растворов Ge-Si. - Баку, 1986.- 140 с.2. Байцар Р.1., Варшава С.С., Островський 1.П.// Вісник ДУ «Львівська політехніка», 1999. - №382. - С.3-7. 3. Байцар Р.1., Варшава С.С., Островська А.С., Пелех Л.М. // Вісник ДУ «Львівська політехніка», 1995. - №q289. - С. 3-8. 4. Ибрагимов Р.Ш., Палкин А.М. // ФТП, 1979, - 13. - № 9, - С.1688-1692. 5. Baitsar R\, Vainberg V.V., Varshava S.S. // Journal de Physique \ \\. - 1996. - 6. - C. 3-434. 6. Шалимова Н.Ф. Физика полупроводников. - М., 1985. 7. Шкловский Б.И., Эфрос А.А. Электронные свойства легированных полупроводников. - М., 1997. - 416 с. 8. Chroboczek J.A., Pollak F.H., Staunton H.F. Impurity conduction in silicon and effect of uniaxial compression on p-type Si. - Phil. Mag. B., 1984. - 50. - №1. - P.113-156. 9. Милнс А.Г. Примеси с глубокими уровнями в полупроводниках. - М., 1973. 10. Горнык В.С. // ФТП, 1994. - 28. - №2. - С.228-231. 11. Иванов Ю.Л., Рывкин С.М. // ФТТ, - 1963. - 5, Вып.12. - С. 3541 - 3544. |
Content type: | Article |
Appears in Collections: | Електроніка. – 2001. – №423 |
File | Description | Size | Format | |
---|---|---|---|---|
14_76-80.pdf | 169.32 kB | Adobe PDF | View/Open |
Items in DSpace are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.