https://oldena.lpnu.ua/handle/ntb/9688| Title: | Механізм захисної дії арилоксамідних структур при уф-деградації поліамідів |
| Authors: | Смоленський, І. М. |
| Bibliographic description (Ukraine): | Смоленський І. М. Механізм захисної дії арилоксамідних структур при уф-деградації поліамідів / І. М. Смоленський // Вісник Національного університету «Львівська політехніка». – 2000. – № 414 : Хімія, технологія речовин та їх застосування. – С. 92-98. – Бібліографія: 9 назв. |
| Issue Date: | 2000 |
| Publisher: | Видавництво Національного університету «Львівська політехніка» |
| Abstract: | На основі дослідження кінетичних закономірностей фотоокислювальної деградації аліфатичних поліамідів у присутності арилоксамідних структур при довгохвильовому опроміненні виявлено специфічний для них біполярно-йонний механізм дезактивації електронно-збуджених станів, що зумовлює переважно додатковий захисний ефект (γn = 1,4 − 2,3)надекранування в кінетичній області фотодеструкції. On research base of kinetic conformities to natural laws of photooxidation degradation of alifatic of polyamides in of presence arylioksiamid structures attached to twoliers irradiation, who is restal to bipolar-ionic decontamination mechanism specific for them of electronically-excited states, that foreordains an overwhelmingly additional protective effect (γn = 1,4 − 2,3) superscreen in kinetic domain photodestruction. |
| URI: | https://ena.lpnu.ua/handle/ntb/9689 |
| Content type: | Article |
| Appears in Collections: | Хімія, технологія речовин та їх застосування. – 2000. – № 414 |
Items in DSpace are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.