Механізм захисної дії арилоксамідних структур при уф-деградації поліамідів

Смоленський, І. М.

Full metadata record

DC Field	Value	Language
dc.contributor.author	Смоленський, І. М.	-
dc.date.accessioned	2011-06-07T09:25:41Z	-
dc.date.available	2011-06-07T09:25:41Z	-
dc.date.issued	2000	-
dc.identifier.citation	Смоленський І. М. Механізм захисної дії арилоксамідних структур при уф-деградації поліамідів / І. М. Смоленський // Вісник Національного університету «Львівська політехніка». – 2000. – № 414 : Хімія, технологія речовин та їх застосування. – С. 92-98. – Бібліографія: 9 назв.	uk_UA
dc.identifier.uri	https://ena.lpnu.ua/handle/ntb/9689	-
dc.description.abstract	На основі дослідження кінетичних закономірностей фотоокислювальної деградації аліфатичних поліамідів у присутності арилоксамідних структур при довгохвильовому опроміненні виявлено специфічний для них біполярно-йонний механізм дезактивації електронно-збуджених станів, що зумовлює переважно додатковий захисний ефект (γn = 1,4 − 2,3)надекранування в кінетичній області фотодеструкції. On research base of kinetic conformities to natural laws of photooxidation degradation of alifatic of polyamides in of presence arylioksiamid structures attached to twoliers irradiation, who is restal to bipolar-ionic decontamination mechanism specific for them of electronically-excited states, that foreordains an overwhelmingly additional protective effect (γn = 1,4 − 2,3) superscreen in kinetic domain photodestruction.	uk_UA
dc.language.iso	ua	uk_UA
dc.publisher	Видавництво Національного університету «Львівська політехніка»	uk_UA
dc.title	Механізм захисної дії арилоксамідних структур при уф-деградації поліамідів	uk_UA
dc.type	Article	uk_UA
Appears in Collections:	Хімія, технологія речовин та їх застосування. – 2000. – № 414

putin IS MURDERER