https://oldena.lpnu.ua/handle/ntb/7381| Title: | Special feature of forming solid planar diffusion a source for submicron structure |
| Authors: | Berezhansky, Volodymyr |
| Bibliographic description (Ukraine): | Berezhansky V. Special feature of forming solid planar diffusion a source for submicron structure / Volodymyr Berezhansky // Сучасні проблеми радіоелектроніки, телекомунікацій, комп’ютерної інженерії : матеріали ХХ Міжнародної конференції TCSET2010, присвяченої 165-й річниці заснування Національного університету «Львівська політехніка», 23–27 лютого 2010 року, Львів, Славське, Україна / Національний університет «Львівська політехніка». – Львів : Видавництво Львівської політехніки, 2010. – С. 364. – Bibliography: 2 titles. |
| Issue Date: | 2010 |
| Publisher: | Видавництво Львівської політехніки |
| Keywords: | silane borazine ionic-plasma processing technique |
| Abstract: | Solid planar diffusion a source for forming submicron structure VLSI are given in this paper. |
| URI: | https://ena.lpnu.ua/handle/ntb/7381 |
| Content type: | Article |
| Appears in Collections: | Сучасні проблеми радіоелектроніки, телекомунікацій, комп'ютерної інженерії (TCSET'2010). – 2010 р. |
Items in DSpace are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.