Skip navigation

putin IS MURDERER

Please use this identifier to cite or link to this item: https://oldena.lpnu.ua/handle/ntb/47557
Title: Програмне забезпечення комплексної оптимізації виробничих систем
Authors: Недоступ, Л. А.
Бобало, Ю. Я.
Кіселичник, М. Д.
Лазько, О. В.
Васьків, Г. М.
Affiliation: Національний університет “Львівська політехніка”
Bibliographic description (Ukraine): Програмне забезпечення комплексної оптимізації виробничих систем / Л. А. Недоступ, Ю. Я. Бобало, М. Д. Кіселичник, О. В. Лазько, Г. М. Васьків // Вісник Національного університету “Львівська політехніка”. — Львів : Видавництво Національного університету “Львівська політехніка”, 2004. — № 522 : Комп’ютерні системи проектування. Теорія і практика. — С. 62–67.
Bibliographic description (International): Prohramne zabezpechennia kompleksnoi optymizatsii vyrobnychykh system / L. A. Nedostup, Yu. Ya. Bobalo, M. D. Kiselychnyk, O. V. Lazko, H. M. Vaskiv // Visnyk Natsionalnoho universytetu "Lvivska politekhnika". — Lviv : Vydavnytstvo Natsionalnoho universytetu "Lvivska politekhnika", 2004. — No 522 : Kompiuterni systemy proektuvannia. Teoriia i praktyka. — P. 62–67.
Is part of: Вісник Національного університету “Львівська політехніка”, 522 : Комп’ютерні системи проектування. Теорія і практика, 2004
Journal/Collection: Вісник Національного університету “Львівська політехніка”
Issue: 522 : Комп’ютерні системи проектування. Теорія і практика
Issue Date: 18-Feb-2004
Publisher: Видавництво Національного університету “Львівська політехніка”
Place of the edition/event: Львів
Lviv
UDC: 658.562
Number of pages: 6
Page range: 62-67
Start page: 62
End page: 67
Abstract: Описується програмний комплекс “ДРЕЙФ”, призначений для вирішення завдань комплексної оптимізацГї технологічних процесів виготовлення радіоелектронних пристроїв за критерієм мінімуму сумарних витрат на забезпечення їх якості та надійності.
The “DREYF” software designed for the complex optimization of electronic devices production process problem solution by criterion of total costs minimum is described.
URI: https://ena.lpnu.ua/handle/ntb/47557
Copyright owner: © Національний університет “Львівська політехніка”, 2004
© Недоступ Л. А., Бобало Ю. Я., Кіселичник М. Д., Лазько О. В., Васьків Г. М., 2004
References (Ukraine): 1. Бобало Ю.Я., Кіселичник М.Д., Недоступ Л.А. Системний аналіз якості виробництва прецизійної радіоелектронної апаратури. - Львів, 1996. - 167 с.
2. Кіселичник М.Д. Моделювання та оптимізація процесів забезпечення якості. - Львів: 2001. - 168 с.
3. Lee, Sherry F., Eric D. Boskin, Hao Cheng Liu, Eddie H. Wen, and Costas J. Spanos. "RTSPC: A Software Utility for Real-Time SPC and Tool Data Analysis." IEEE Transactions on Semiconductor Manufacturing, vol. 8, no. 1, - p. 17-25.
4. Rao, Suraj, Andrej J. Strojwas, John P. Lehoczky, and Mark J. Schervish. "Monitoring Multistage Integrated Circuit Fabrication Processes." IEEE Transactions on Semiconductor Manufacturing, vol. 9, no. 4, - p. 495-505.
5. Spanos, Costas J. and Raymond L. Chen. "Using Qualitative Observations for Process Tuning and Control." IEEE Transactions on Semiconductor Manufacturing, vol. 10, № 2, - p. 307-316.
6. Spanos, Costa J.,Hai-Fang Guo, Alan Miller, and Joanne Levine-Parrill.'Real Time Statistical Process Control Using Tool Data." IEEE Transactions on Semiconductor Manufacturing, vol. 5, № 4, - p. 308-318.
7. Mozumder, Pumendu K. and Andrzej J. Strojwas. "Statistical Control of VLSI Fabrication Processes." IEEE Transactions on Components, Hybrids, and Manufacturing Technology, vol. 17, № 3,-p. 467-475.
References (International): 1. Bobalo Yu.Ya., Kiselychnyk M.D., Nedostup L.A. Systemnyi analiz yakosti vyrobnytstva pretsyziinoi radioelektronnoi aparatury, Lviv, 1996, 167 p.
2. Kiselychnyk M.D. Modeliuvannia ta optymizatsiia protsesiv zabezpechennia yakosti, Lviv: 2001, 168 p.
3. Lee, Sherry F., Eric D. Boskin, Hao Cheng Liu, Eddie H. Wen, and Costas J. Spanos. "RTSPC: A Software Utility for Real-Time SPC and Tool Data Analysis." IEEE Transactions on Semiconductor Manufacturing, vol. 8, no. 1, p. 17-25.
4. Rao, Suraj, Andrej J. Strojwas, John P. Lehoczky, and Mark J. Schervish. "Monitoring Multistage Integrated Circuit Fabrication Processes." IEEE Transactions on Semiconductor Manufacturing, vol. 9, no. 4, p. 495-505.
5. Spanos, Costas J. and Raymond L. Chen. "Using Qualitative Observations for Process Tuning and Control." IEEE Transactions on Semiconductor Manufacturing, vol. 10, No 2, p. 307-316.
6. Spanos, Costa J.,Hai-Fang Guo, Alan Miller, and Joanne Levine-Parrill.'Real Time Statistical Process Control Using Tool Data." IEEE Transactions on Semiconductor Manufacturing, vol. 5, No 4, p. 308-318.
7. Mozumder, Pumendu K. and Andrzej J. Strojwas. "Statistical Control of VLSI Fabrication Processes." IEEE Transactions on Components, Hybrids, and Manufacturing Technology, vol. 17, No 3,-p. 467-475.
Content type: Article
Appears in Collections:Комп'ютерні системи проектування теорія і практика. – 2004. – №522

Files in This Item:
File Description SizeFormat 
2004n522_Nedostup_L_A-Prohramne_zabezpechennia_62-67.pdf418.13 kBAdobe PDFView/Open
2004n522_Nedostup_L_A-Prohramne_zabezpechennia_62-67__COVER.png456.65 kBimage/pngView/Open
Show full item record


Items in DSpace are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.