Skip navigation
DSpace logo
  1. Електронний науковий архів Науково-технічної бібліотеки Національного університету "Львівська політехніка"
  2. Електронний архів Науково-технічної бібліотеки
  3. Вісники та науково-технічні збірники, журнали
  4. Chemistry & Chemical Technology
  5. Chemistry & Chemical Technology. – 2019. – Vol. 13, No. 3

putin IS MURDERER

Please use this identifier to cite or link to this item: https://oldena.lpnu.ua/handle/ntb/46483
Title: Preparation of Secondary pH of Phthalate Buffer Solution Using Differential Potentiometric Cell: Method Validation and Application
Other Titles: Приготування вторинного рН-стандарту для фталатного буферного розчину з використанням диференціальної потенціометричної комірки: валідація методу та застосування
Authors: Hindayani, Ayu
Zuas, Oman
Sujarwo
Fransiska S. H. Krismastuti
Nuryatini
Affiliation: National Standardization Agency of Indonesia (BSN)
Research Centre for Chemistry-Indonesian Institute of Sciences (RCChem-LIPI)
Bibliographic description (Ukraine): Preparation of Secondary pH of Phthalate Buffer Solution Using Differential Potentiometric Cell: Method Validation and Application / Ayu Hindayani, Oman Zuas, Sujarwo, Fransiska S. H. Krismastuti, Nuryatini // Chemistry & Chemical Technology. — Lviv : Lviv Politechnic Publishing House, 2019. — Vol 13. — No 3. — P. 377–383.
Bibliographic description (International): Preparation of Secondary pH of Phthalate Buffer Solution Using Differential Potentiometric Cell: Method Validation and Application / Ayu Hindayani, Oman Zuas, Sujarwo, Fransiska S. H. Krismastuti, Nuryatini // Chemistry & Chemical Technology. — Lviv : Lviv Politechnic Publishing House, 2019. — Vol 13. — No 3. — P. 377–383.
Is part of: Chemistry & Chemical Technology, 3 (13), 2019
Issue: 3
Issue Date: 28-Feb-2019
Publisher: Видавництво Львівської політехніки
Lviv Politechnic Publishing House
Place of the edition/event: Львів
Lviv
Keywords: диференціальна потенціометрична комірка
рН
фталатний буферний розчин
валідація методу
порівняння з міжнародною референтною величиною
differential potentiometric cell
pH
phthalate buffer
method validation
international key comparison
Number of pages: 7
Page range: 377-383
Start page: 377
End page: 383
Abstract: Методом диференційної потенціометрії із застосуванням електрохімічної комірки Бауке, розділеної посередині пористою скляною дисковою перегородкою на так звані дві напівкомірки, приготований фталатний буферний розчин як вторинний стандарт для величини рН. Правильність цього методу перевірена за температури 298 К з метою оцінки його придатності. Параметри валідації методу включають точність (відхилення від істинного значення), прецизійність (повторюваність) та оцінку невизначеності вимірювань. Виявлено, що і точність, і прецизійність методу були на належному рівні, що підтверджується дуже низькими величинами стандартних відхилень. Проведено оцінку величини невизначеності вимірювання цього методу. Застосування валідованого аналітичного методу для вимірювання величини рН фталатного буферного розчину згідно міжнародного порівняльного випробування (APMP.QM-K91) показало, що результат був близьким до паспортної (сертифікованої) величини, яка використовується як референтна для порівняння в рамках випробування APMP.QM-K91.
A secondary pH of phthalate buffer was prepared by differential potentiometry method using a Baucke cell which is separated by sintered glass disk in the middle of cell – so called two-half cells. The method has been validated at 298 K with the purpose to evaluate its suitability for meeting the application requirement. The method validation parameters include accuracy (bias), precision (repeatability), and estimation of measurement uncertainty. It was found that both accuracy and precision of the method were good, which is indicated by their very low standard deviation (SD). The measurement uncertainty value of the method was estimated. Application of the validated analytical method for the measurement of phthalate buffer in an international comparative test (APMP.QM-K91) showed that the result was close to the APMP.QM-K91’s Key Comparison Reference Value.
URI: https://ena.lpnu.ua/handle/ntb/46483
Copyright owner: © Національний університет „Львівська політехніка“, 2019
© Hindayani A., Zuas O., Sujarwo, Krismastuti F., Nuryatini, 2019
URL for reference material: https://doi.org/10.1351/pac200274112169
https://doi.org/10.1002/elan.201300135
https://doi.org/10.1007/s00769-006-0210-0
https://doi.org/10.1007/s10008-010-1106-9
https://doi.org/10.1016/0022-0728(93)03024-J
https://doi.org/10.1088/0026-1394/54/1A/08002
References (Ukraine): 1. Buck R., Rondinini S. et al.: Pure Appl. Chem. 2002, 74, 2169. https://doi.org/10.1351/pac200274112169
2. Gonzaga F., Dias J., Jehnert D. et al.: Electroanal., 2013, 25, 1955. https://doi.org/10.1002/elan.201300135
3. Laongsri B., Boonyakong C., Tangpaisarnkul N., Cherdchu C.: Accred. Qual. Assur., 2017, 12, 194. https://doi.org/10.1007/s00769-006-0210-0
4. Wu Y., Koch W., Marinenko G.: J. Res. Nat. Bur. Stand., 1984, 89, 395.
5. European Pharmacopoeia, 4th edn. Council of Europe, Strasbourg 2002.
6. Spitzer P., Pratt K.: J. Solid State Electrochem., 2011, 15, 69. https://doi.org/10.1007/s10008-010-1106-9
7. Nuryatini, Sujarwo, Hindayani A.: J. Standardisasi, 2015, 18, 35.
8. Hetzer H., Durst R.: J. Res. Nat. Bur. Stand., 1977, 81A, 21.
9. Magnusson B., Örnemark U. (Eds.): Eurachem Guide: The Fitness for Purpose of Analytical Methods – A Laboratory Guide to Method Validation and Related Topics, 2nd edn., 2014. www.eurachem.org.
10. Gonzalez C., Watters Jr. R.: Certificate of Analysis SRM®NIST 185i Potassium Hydrogen Phthalate pH Standard, Department of Commerce United States of America 2013.
11. Yildirim A.: Certificate of Analysis Certipure® Certified ReferenceMaterial Potassium Hydrogen Phthalate, MERCK, Germany 2015.
12. Baucke F.: J. Electroanal. Chem., 1994, 368, 67. https://doi.org/10.1016/0022-0728(93)03024-J
13. Mustopo Y.: Effect of Time on Thickness and Adhesivity Layer in Electroplating Process of Chrome Decorative without Basic Layer with Copper Basic Layer and Copper-Nickel., Department ofMechanical Engineering, Technical Faculty of UNS, Solo, Indonesia 2011.
14. Hamer W., Acree S.: J. Res. Nat. Bur. Stand., 1944, 33, 87.
15. Budiman H.:Warta Kimia Analitik., 2014, 20, 18.
16. Bell S.:Measurement Good Practice Guide (Issue 2), National Physical Laboratory, United Kingdom 2001.
17. Subangga B., Sutikno E., Ariseno A.: Effect of Anode Variation and time of Electroplating on Wear Rate of Grinding Ball., Department of Mechanical Engineering University of BrawijayaMalang.
18. Hioki A., Asakai T., Maksimov I. et.al.:Metrologia, 2017, 54, 08002. https://doi.org/10.1088/0026-1394/54/1A/08002
References (International): 1. Buck R., Rondinini S. et al., Pure Appl. Chem. 2002, 74, 2169. https://doi.org/10.1351/pac200274112169
2. Gonzaga F., Dias J., Jehnert D. et al., Electroanal., 2013, 25, 1955. https://doi.org/10.1002/elan.201300135
3. Laongsri B., Boonyakong C., Tangpaisarnkul N., Cherdchu C., Accred. Qual. Assur., 2017, 12, 194. https://doi.org/10.1007/s00769-006-0210-0
4. Wu Y., Koch W., Marinenko G., J. Res. Nat. Bur. Stand., 1984, 89, 395.
5. European Pharmacopoeia, 4th edn. Council of Europe, Strasbourg 2002.
6. Spitzer P., Pratt K., J. Solid State Electrochem., 2011, 15, 69. https://doi.org/10.1007/s10008-010-1106-9
7. Nuryatini, Sujarwo, Hindayani A., J. Standardisasi, 2015, 18, 35.
8. Hetzer H., Durst R., J. Res. Nat. Bur. Stand., 1977, 81A, 21.
9. Magnusson B., Örnemark U. (Eds.): Eurachem Guide: The Fitness for Purpose of Analytical Methods – A Laboratory Guide to Method Validation and Related Topics, 2nd edn., 2014. www.eurachem.org.
10. Gonzalez C., Watters Jr. R., Certificate of Analysis SRM®NIST 185i Potassium Hydrogen Phthalate pH Standard, Department of Commerce United States of America 2013.
11. Yildirim A., Certificate of Analysis Certipure® Certified ReferenceMaterial Potassium Hydrogen Phthalate, MERCK, Germany 2015.
12. Baucke F., J. Electroanal. Chem., 1994, 368, 67. https://doi.org/10.1016/0022-0728(93)03024-J
13. Mustopo Y., Effect of Time on Thickness and Adhesivity Layer in Electroplating Process of Chrome Decorative without Basic Layer with Copper Basic Layer and Copper-Nickel., Department ofMechanical Engineering, Technical Faculty of UNS, Solo, Indonesia 2011.
14. Hamer W., Acree S., J. Res. Nat. Bur. Stand., 1944, 33, 87.
15. Budiman H.:Warta Kimia Analitik., 2014, 20, 18.
16. Bell S.:Measurement Good Practice Guide (Issue 2), National Physical Laboratory, United Kingdom 2001.
17. Subangga B., Sutikno E., Ariseno A., Effect of Anode Variation and time of Electroplating on Wear Rate of Grinding Ball., Department of Mechanical Engineering University of BrawijayaMalang.
18. Hioki A., Asakai T., Maksimov I. et.al.:Metrologia, 2017, 54, 08002. https://doi.org/10.1088/0026-1394/54/1A/08002
Content type: Article
Appears in Collections:Chemistry & Chemical Technology. – 2019. – Vol. 13, No. 3

Files in This Item:
File Description SizeFormat 
2019v13n3_Hindayani_A-Preparation_of_Secondary_377-383.pdf366.53 kBAdobe PDFView/Open
2019v13n3_Hindayani_A-Preparation_of_Secondary_377-383__COVER.png527.28 kBimage/pngView/Open
Show full item record


Items in DSpace are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.