Skip navigation

putin IS MURDERER

Please use this identifier to cite or link to this item: https://oldena.lpnu.ua/handle/ntb/46483
Full metadata record
DC FieldValueLanguage
dc.contributor.authorHindayani, Ayu
dc.contributor.authorZuas, Oman
dc.contributor.authorSujarwo
dc.contributor.authorFransiska S. H. Krismastuti
dc.contributor.authorNuryatini
dc.date.accessioned2020-03-02T13:09:24Z-
dc.date.available2020-03-02T13:09:24Z-
dc.date.created2019-02-28
dc.date.issued2019-02-28
dc.identifier.citationPreparation of Secondary pH of Phthalate Buffer Solution Using Differential Potentiometric Cell: Method Validation and Application / Ayu Hindayani, Oman Zuas, Sujarwo, Fransiska S. H. Krismastuti, Nuryatini // Chemistry & Chemical Technology. — Lviv : Lviv Politechnic Publishing House, 2019. — Vol 13. — No 3. — P. 377–383.
dc.identifier.urihttps://ena.lpnu.ua/handle/ntb/46483-
dc.description.abstractМетодом диференційної потенціометрії із застосуванням електрохімічної комірки Бауке, розділеної посередині пористою скляною дисковою перегородкою на так звані дві напівкомірки, приготований фталатний буферний розчин як вторинний стандарт для величини рН. Правильність цього методу перевірена за температури 298 К з метою оцінки його придатності. Параметри валідації методу включають точність (відхилення від істинного значення), прецизійність (повторюваність) та оцінку невизначеності вимірювань. Виявлено, що і точність, і прецизійність методу були на належному рівні, що підтверджується дуже низькими величинами стандартних відхилень. Проведено оцінку величини невизначеності вимірювання цього методу. Застосування валідованого аналітичного методу для вимірювання величини рН фталатного буферного розчину згідно міжнародного порівняльного випробування (APMP.QM-K91) показало, що результат був близьким до паспортної (сертифікованої) величини, яка використовується як референтна для порівняння в рамках випробування APMP.QM-K91.
dc.description.abstractA secondary pH of phthalate buffer was prepared by differential potentiometry method using a Baucke cell which is separated by sintered glass disk in the middle of cell – so called two-half cells. The method has been validated at 298 K with the purpose to evaluate its suitability for meeting the application requirement. The method validation parameters include accuracy (bias), precision (repeatability), and estimation of measurement uncertainty. It was found that both accuracy and precision of the method were good, which is indicated by their very low standard deviation (SD). The measurement uncertainty value of the method was estimated. Application of the validated analytical method for the measurement of phthalate buffer in an international comparative test (APMP.QM-K91) showed that the result was close to the APMP.QM-K91’s Key Comparison Reference Value.
dc.format.extent377-383
dc.language.isoen
dc.publisherВидавництво Львівської політехніки
dc.publisherLviv Politechnic Publishing House
dc.relation.ispartofChemistry & Chemical Technology, 3 (13), 2019
dc.relation.urihttps://doi.org/10.1351/pac200274112169
dc.relation.urihttps://doi.org/10.1002/elan.201300135
dc.relation.urihttps://doi.org/10.1007/s00769-006-0210-0
dc.relation.urihttps://doi.org/10.1007/s10008-010-1106-9
dc.relation.urihttps://doi.org/10.1016/0022-0728(93)03024-J
dc.relation.urihttps://doi.org/10.1088/0026-1394/54/1A/08002
dc.subjectдиференціальна потенціометрична комірка
dc.subjectрН
dc.subjectфталатний буферний розчин
dc.subjectвалідація методу
dc.subjectпорівняння з міжнародною референтною величиною
dc.subjectdifferential potentiometric cell
dc.subjectpH
dc.subjectphthalate buffer
dc.subjectmethod validation
dc.subjectinternational key comparison
dc.titlePreparation of Secondary pH of Phthalate Buffer Solution Using Differential Potentiometric Cell: Method Validation and Application
dc.title.alternativeПриготування вторинного рН-стандарту для фталатного буферного розчину з використанням диференціальної потенціометричної комірки: валідація методу та застосування
dc.typeArticle
dc.rights.holder© Національний університет „Львівська політехніка“, 2019
dc.rights.holder© Hindayani A., Zuas O., Sujarwo, Krismastuti F., Nuryatini, 2019
dc.contributor.affiliationNational Standardization Agency of Indonesia (BSN)
dc.contributor.affiliationResearch Centre for Chemistry-Indonesian Institute of Sciences (RCChem-LIPI)
dc.format.pages7
dc.identifier.citationenPreparation of Secondary pH of Phthalate Buffer Solution Using Differential Potentiometric Cell: Method Validation and Application / Ayu Hindayani, Oman Zuas, Sujarwo, Fransiska S. H. Krismastuti, Nuryatini // Chemistry & Chemical Technology. — Lviv : Lviv Politechnic Publishing House, 2019. — Vol 13. — No 3. — P. 377–383.
dc.relation.references1. Buck R., Rondinini S. et al.: Pure Appl. Chem. 2002, 74, 2169. https://doi.org/10.1351/pac200274112169
dc.relation.references2. Gonzaga F., Dias J., Jehnert D. et al.: Electroanal., 2013, 25, 1955. https://doi.org/10.1002/elan.201300135
dc.relation.references3. Laongsri B., Boonyakong C., Tangpaisarnkul N., Cherdchu C.: Accred. Qual. Assur., 2017, 12, 194. https://doi.org/10.1007/s00769-006-0210-0
dc.relation.references4. Wu Y., Koch W., Marinenko G.: J. Res. Nat. Bur. Stand., 1984, 89, 395.
dc.relation.references5. European Pharmacopoeia, 4th edn. Council of Europe, Strasbourg 2002.
dc.relation.references6. Spitzer P., Pratt K.: J. Solid State Electrochem., 2011, 15, 69. https://doi.org/10.1007/s10008-010-1106-9
dc.relation.references7. Nuryatini, Sujarwo, Hindayani A.: J. Standardisasi, 2015, 18, 35.
dc.relation.references8. Hetzer H., Durst R.: J. Res. Nat. Bur. Stand., 1977, 81A, 21.
dc.relation.references9. Magnusson B., Örnemark U. (Eds.): Eurachem Guide: The Fitness for Purpose of Analytical Methods – A Laboratory Guide to Method Validation and Related Topics, 2nd edn., 2014. www.eurachem.org.
dc.relation.references10. Gonzalez C., Watters Jr. R.: Certificate of Analysis SRM®NIST 185i Potassium Hydrogen Phthalate pH Standard, Department of Commerce United States of America 2013.
dc.relation.references11. Yildirim A.: Certificate of Analysis Certipure® Certified ReferenceMaterial Potassium Hydrogen Phthalate, MERCK, Germany 2015.
dc.relation.references12. Baucke F.: J. Electroanal. Chem., 1994, 368, 67. https://doi.org/10.1016/0022-0728(93)03024-J
dc.relation.references13. Mustopo Y.: Effect of Time on Thickness and Adhesivity Layer in Electroplating Process of Chrome Decorative without Basic Layer with Copper Basic Layer and Copper-Nickel., Department ofMechanical Engineering, Technical Faculty of UNS, Solo, Indonesia 2011.
dc.relation.references14. Hamer W., Acree S.: J. Res. Nat. Bur. Stand., 1944, 33, 87.
dc.relation.references15. Budiman H.:Warta Kimia Analitik., 2014, 20, 18.
dc.relation.references16. Bell S.:Measurement Good Practice Guide (Issue 2), National Physical Laboratory, United Kingdom 2001.
dc.relation.references17. Subangga B., Sutikno E., Ariseno A.: Effect of Anode Variation and time of Electroplating on Wear Rate of Grinding Ball., Department of Mechanical Engineering University of BrawijayaMalang.
dc.relation.references18. Hioki A., Asakai T., Maksimov I. et.al.:Metrologia, 2017, 54, 08002. https://doi.org/10.1088/0026-1394/54/1A/08002
dc.relation.referencesen1. Buck R., Rondinini S. et al., Pure Appl. Chem. 2002, 74, 2169. https://doi.org/10.1351/pac200274112169
dc.relation.referencesen2. Gonzaga F., Dias J., Jehnert D. et al., Electroanal., 2013, 25, 1955. https://doi.org/10.1002/elan.201300135
dc.relation.referencesen3. Laongsri B., Boonyakong C., Tangpaisarnkul N., Cherdchu C., Accred. Qual. Assur., 2017, 12, 194. https://doi.org/10.1007/s00769-006-0210-0
dc.relation.referencesen4. Wu Y., Koch W., Marinenko G., J. Res. Nat. Bur. Stand., 1984, 89, 395.
dc.relation.referencesen5. European Pharmacopoeia, 4th edn. Council of Europe, Strasbourg 2002.
dc.relation.referencesen6. Spitzer P., Pratt K., J. Solid State Electrochem., 2011, 15, 69. https://doi.org/10.1007/s10008-010-1106-9
dc.relation.referencesen7. Nuryatini, Sujarwo, Hindayani A., J. Standardisasi, 2015, 18, 35.
dc.relation.referencesen8. Hetzer H., Durst R., J. Res. Nat. Bur. Stand., 1977, 81A, 21.
dc.relation.referencesen9. Magnusson B., Örnemark U. (Eds.): Eurachem Guide: The Fitness for Purpose of Analytical Methods – A Laboratory Guide to Method Validation and Related Topics, 2nd edn., 2014. www.eurachem.org.
dc.relation.referencesen10. Gonzalez C., Watters Jr. R., Certificate of Analysis SRM®NIST 185i Potassium Hydrogen Phthalate pH Standard, Department of Commerce United States of America 2013.
dc.relation.referencesen11. Yildirim A., Certificate of Analysis Certipure® Certified ReferenceMaterial Potassium Hydrogen Phthalate, MERCK, Germany 2015.
dc.relation.referencesen12. Baucke F., J. Electroanal. Chem., 1994, 368, 67. https://doi.org/10.1016/0022-0728(93)03024-J
dc.relation.referencesen13. Mustopo Y., Effect of Time on Thickness and Adhesivity Layer in Electroplating Process of Chrome Decorative without Basic Layer with Copper Basic Layer and Copper-Nickel., Department ofMechanical Engineering, Technical Faculty of UNS, Solo, Indonesia 2011.
dc.relation.referencesen14. Hamer W., Acree S., J. Res. Nat. Bur. Stand., 1944, 33, 87.
dc.relation.referencesen15. Budiman H.:Warta Kimia Analitik., 2014, 20, 18.
dc.relation.referencesen16. Bell S.:Measurement Good Practice Guide (Issue 2), National Physical Laboratory, United Kingdom 2001.
dc.relation.referencesen17. Subangga B., Sutikno E., Ariseno A., Effect of Anode Variation and time of Electroplating on Wear Rate of Grinding Ball., Department of Mechanical Engineering University of BrawijayaMalang.
dc.relation.referencesen18. Hioki A., Asakai T., Maksimov I. et.al.:Metrologia, 2017, 54, 08002. https://doi.org/10.1088/0026-1394/54/1A/08002
dc.citation.issue3
dc.citation.spage377
dc.citation.epage383
dc.coverage.placenameЛьвів
dc.coverage.placenameLviv
Appears in Collections:Chemistry & Chemical Technology. – 2019. – Vol. 13, No. 3

Files in This Item:
File Description SizeFormat 
2019v13n3_Hindayani_A-Preparation_of_Secondary_377-383.pdf366.53 kBAdobe PDFView/Open
2019v13n3_Hindayani_A-Preparation_of_Secondary_377-383__COVER.png527.28 kBimage/pngView/Open
Show simple item record


Items in DSpace are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.