DC Field | Value | Language |
dc.contributor.author | Hindayani, Ayu | |
dc.contributor.author | Zuas, Oman | |
dc.contributor.author | Sujarwo | |
dc.contributor.author | Fransiska S. H. Krismastuti | |
dc.contributor.author | Nuryatini | |
dc.date.accessioned | 2020-03-02T13:09:24Z | - |
dc.date.available | 2020-03-02T13:09:24Z | - |
dc.date.created | 2019-02-28 | |
dc.date.issued | 2019-02-28 | |
dc.identifier.citation | Preparation of Secondary pH of Phthalate Buffer Solution Using Differential Potentiometric Cell: Method Validation and Application / Ayu Hindayani, Oman Zuas, Sujarwo, Fransiska S. H. Krismastuti, Nuryatini // Chemistry & Chemical Technology. — Lviv : Lviv Politechnic Publishing House, 2019. — Vol 13. — No 3. — P. 377–383. | |
dc.identifier.uri | https://ena.lpnu.ua/handle/ntb/46483 | - |
dc.description.abstract | Методом диференційної потенціометрії із
застосуванням електрохімічної комірки Бауке, розділеної
посередині пористою скляною дисковою перегородкою на так
звані дві напівкомірки, приготований фталатний буферний
розчин як вторинний стандарт для величини рН. Правильність
цього методу перевірена за температури 298 К з метою
оцінки його придатності. Параметри валідації методу
включають точність (відхилення від істинного значення),
прецизійність (повторюваність) та оцінку невизначеності
вимірювань. Виявлено, що і точність, і прецизійність методу
були на належному рівні, що підтверджується дуже низькими
величинами стандартних відхилень. Проведено оцінку величини
невизначеності вимірювання цього методу. Застосування
валідованого аналітичного методу для вимірювання величини
рН фталатного буферного розчину згідно міжнародного
порівняльного випробування (APMP.QM-K91) показало, що
результат був близьким до паспортної (сертифікованої)
величини, яка використовується як референтна для порівняння
в рамках випробування APMP.QM-K91. | |
dc.description.abstract | A secondary pH of phthalate buffer was
prepared by differential potentiometry method using a
Baucke cell which is separated by sintered glass disk in
the middle of cell – so called two-half cells. The method
has been validated at 298 K with the purpose to evaluate
its suitability for meeting the application requirement. The
method validation parameters include accuracy (bias),
precision (repeatability), and estimation of measurement
uncertainty. It was found that both accuracy and precision
of the method were good, which is indicated by their very
low standard deviation (SD). The measurement uncertainty
value of the method was estimated. Application of
the validated analytical method for the measurement of
phthalate buffer in an international comparative test
(APMP.QM-K91) showed that the result was close to the
APMP.QM-K91’s Key Comparison Reference Value. | |
dc.format.extent | 377-383 | |
dc.language.iso | en | |
dc.publisher | Видавництво Львівської політехніки | |
dc.publisher | Lviv Politechnic Publishing House | |
dc.relation.ispartof | Chemistry & Chemical Technology, 3 (13), 2019 | |
dc.relation.uri | https://doi.org/10.1351/pac200274112169 | |
dc.relation.uri | https://doi.org/10.1002/elan.201300135 | |
dc.relation.uri | https://doi.org/10.1007/s00769-006-0210-0 | |
dc.relation.uri | https://doi.org/10.1007/s10008-010-1106-9 | |
dc.relation.uri | https://doi.org/10.1016/0022-0728(93)03024-J | |
dc.relation.uri | https://doi.org/10.1088/0026-1394/54/1A/08002 | |
dc.subject | диференціальна потенціометрична комірка | |
dc.subject | рН | |
dc.subject | фталатний буферний розчин | |
dc.subject | валідація методу | |
dc.subject | порівняння з міжнародною референтною величиною | |
dc.subject | differential potentiometric cell | |
dc.subject | pH | |
dc.subject | phthalate buffer | |
dc.subject | method validation | |
dc.subject | international key comparison | |
dc.title | Preparation of Secondary pH of Phthalate Buffer Solution Using Differential Potentiometric Cell: Method Validation and Application | |
dc.title.alternative | Приготування вторинного рН-стандарту для фталатного буферного розчину з використанням диференціальної потенціометричної комірки: валідація методу та застосування | |
dc.type | Article | |
dc.rights.holder | © Національний університет „Львівська політехніка“, 2019 | |
dc.rights.holder | © Hindayani A., Zuas O., Sujarwo, Krismastuti F., Nuryatini, 2019 | |
dc.contributor.affiliation | National Standardization Agency of Indonesia (BSN) | |
dc.contributor.affiliation | Research Centre for Chemistry-Indonesian Institute of Sciences (RCChem-LIPI) | |
dc.format.pages | 7 | |
dc.identifier.citationen | Preparation of Secondary pH of Phthalate Buffer Solution Using Differential Potentiometric Cell: Method Validation and Application / Ayu Hindayani, Oman Zuas, Sujarwo, Fransiska S. H. Krismastuti, Nuryatini // Chemistry & Chemical Technology. — Lviv : Lviv Politechnic Publishing House, 2019. — Vol 13. — No 3. — P. 377–383. | |
dc.relation.references | 1. Buck R., Rondinini S. et al.: Pure Appl. Chem. 2002, 74, 2169. https://doi.org/10.1351/pac200274112169 | |
dc.relation.references | 2. Gonzaga F., Dias J., Jehnert D. et al.: Electroanal., 2013, 25, 1955. https://doi.org/10.1002/elan.201300135 | |
dc.relation.references | 3. Laongsri B., Boonyakong C., Tangpaisarnkul N., Cherdchu C.: Accred. Qual. Assur., 2017, 12, 194. https://doi.org/10.1007/s00769-006-0210-0 | |
dc.relation.references | 4. Wu Y., Koch W., Marinenko G.: J. Res. Nat. Bur. Stand., 1984, 89, 395. | |
dc.relation.references | 5. European Pharmacopoeia, 4th edn. Council of Europe, Strasbourg 2002. | |
dc.relation.references | 6. Spitzer P., Pratt K.: J. Solid State Electrochem., 2011, 15, 69. https://doi.org/10.1007/s10008-010-1106-9 | |
dc.relation.references | 7. Nuryatini, Sujarwo, Hindayani A.: J. Standardisasi, 2015, 18, 35. | |
dc.relation.references | 8. Hetzer H., Durst R.: J. Res. Nat. Bur. Stand., 1977, 81A, 21. | |
dc.relation.references | 9. Magnusson B., Örnemark U. (Eds.): Eurachem Guide: The Fitness for Purpose of Analytical Methods – A Laboratory Guide to Method Validation and Related Topics, 2nd edn., 2014. www.eurachem.org. | |
dc.relation.references | 10. Gonzalez C., Watters Jr. R.: Certificate of Analysis SRM®NIST 185i Potassium Hydrogen Phthalate pH Standard, Department of Commerce United States of America 2013. | |
dc.relation.references | 11. Yildirim A.: Certificate of Analysis Certipure® Certified ReferenceMaterial Potassium Hydrogen Phthalate, MERCK, Germany 2015. | |
dc.relation.references | 12. Baucke F.: J. Electroanal. Chem., 1994, 368, 67. https://doi.org/10.1016/0022-0728(93)03024-J | |
dc.relation.references | 13. Mustopo Y.: Effect of Time on Thickness and Adhesivity Layer in Electroplating Process of Chrome Decorative without Basic Layer with Copper Basic Layer and Copper-Nickel., Department ofMechanical Engineering, Technical Faculty of UNS, Solo, Indonesia 2011. | |
dc.relation.references | 14. Hamer W., Acree S.: J. Res. Nat. Bur. Stand., 1944, 33, 87. | |
dc.relation.references | 15. Budiman H.:Warta Kimia Analitik., 2014, 20, 18. | |
dc.relation.references | 16. Bell S.:Measurement Good Practice Guide (Issue 2), National Physical Laboratory, United Kingdom 2001. | |
dc.relation.references | 17. Subangga B., Sutikno E., Ariseno A.: Effect of Anode Variation and time of Electroplating on Wear Rate of Grinding Ball., Department of Mechanical Engineering University of BrawijayaMalang. | |
dc.relation.references | 18. Hioki A., Asakai T., Maksimov I. et.al.:Metrologia, 2017, 54, 08002. https://doi.org/10.1088/0026-1394/54/1A/08002 | |
dc.relation.referencesen | 1. Buck R., Rondinini S. et al., Pure Appl. Chem. 2002, 74, 2169. https://doi.org/10.1351/pac200274112169 | |
dc.relation.referencesen | 2. Gonzaga F., Dias J., Jehnert D. et al., Electroanal., 2013, 25, 1955. https://doi.org/10.1002/elan.201300135 | |
dc.relation.referencesen | 3. Laongsri B., Boonyakong C., Tangpaisarnkul N., Cherdchu C., Accred. Qual. Assur., 2017, 12, 194. https://doi.org/10.1007/s00769-006-0210-0 | |
dc.relation.referencesen | 4. Wu Y., Koch W., Marinenko G., J. Res. Nat. Bur. Stand., 1984, 89, 395. | |
dc.relation.referencesen | 5. European Pharmacopoeia, 4th edn. Council of Europe, Strasbourg 2002. | |
dc.relation.referencesen | 6. Spitzer P., Pratt K., J. Solid State Electrochem., 2011, 15, 69. https://doi.org/10.1007/s10008-010-1106-9 | |
dc.relation.referencesen | 7. Nuryatini, Sujarwo, Hindayani A., J. Standardisasi, 2015, 18, 35. | |
dc.relation.referencesen | 8. Hetzer H., Durst R., J. Res. Nat. Bur. Stand., 1977, 81A, 21. | |
dc.relation.referencesen | 9. Magnusson B., Örnemark U. (Eds.): Eurachem Guide: The Fitness for Purpose of Analytical Methods – A Laboratory Guide to Method Validation and Related Topics, 2nd edn., 2014. www.eurachem.org. | |
dc.relation.referencesen | 10. Gonzalez C., Watters Jr. R., Certificate of Analysis SRM®NIST 185i Potassium Hydrogen Phthalate pH Standard, Department of Commerce United States of America 2013. | |
dc.relation.referencesen | 11. Yildirim A., Certificate of Analysis Certipure® Certified ReferenceMaterial Potassium Hydrogen Phthalate, MERCK, Germany 2015. | |
dc.relation.referencesen | 12. Baucke F., J. Electroanal. Chem., 1994, 368, 67. https://doi.org/10.1016/0022-0728(93)03024-J | |
dc.relation.referencesen | 13. Mustopo Y., Effect of Time on Thickness and Adhesivity Layer in Electroplating Process of Chrome Decorative without Basic Layer with Copper Basic Layer and Copper-Nickel., Department ofMechanical Engineering, Technical Faculty of UNS, Solo, Indonesia 2011. | |
dc.relation.referencesen | 14. Hamer W., Acree S., J. Res. Nat. Bur. Stand., 1944, 33, 87. | |
dc.relation.referencesen | 15. Budiman H.:Warta Kimia Analitik., 2014, 20, 18. | |
dc.relation.referencesen | 16. Bell S.:Measurement Good Practice Guide (Issue 2), National Physical Laboratory, United Kingdom 2001. | |
dc.relation.referencesen | 17. Subangga B., Sutikno E., Ariseno A., Effect of Anode Variation and time of Electroplating on Wear Rate of Grinding Ball., Department of Mechanical Engineering University of BrawijayaMalang. | |
dc.relation.referencesen | 18. Hioki A., Asakai T., Maksimov I. et.al.:Metrologia, 2017, 54, 08002. https://doi.org/10.1088/0026-1394/54/1A/08002 | |
dc.citation.issue | 3 | |
dc.citation.spage | 377 | |
dc.citation.epage | 383 | |
dc.coverage.placename | Львів | |
dc.coverage.placename | Lviv | |
Appears in Collections: | Chemistry & Chemical Technology. – 2019. – Vol. 13, No. 3
|