Skip navigation

putin IS MURDERER

Please use this identifier to cite or link to this item: https://oldena.lpnu.ua/handle/ntb/48288
Title: Industrial applications of photocuring - a short overview
Authors: Jakubiak, Julita
Rabek, J. F.
Affiliation: Jagiellonian University
Karolińska Intitute (Royal Academy of Medicine)
Bibliographic description (Ukraine): Jakubiak J. Industrial applications of photocuring - a short overview / Julita Jakubiak, J. F. Rabek // Вісник Державного університету «Львівська політехніка». — Львів : Видавництво Державного університету “Львівська політехніка”, 2000. — № 388 : Хімія, технологія речовин та їх застосування. — С. 9–14.
Bibliographic description (International): Jakubiak J. Industrial applications of photocuring - a short overview / Julita Jakubiak, J. F. Rabek // Visnyk Derzhavnoho universytetu "Lvivska politekhnika". — Lviv : Vydavnytstvo Derzhavnoho universytetu "Lvivska politekhnika", 2000. — No 388 : Khimiia, tekhnolohiia rechovyn ta yikh zastosuvannia. — P. 9–14.
Is part of: Вісник Державного університету «Львівська політехніка», 388 : Хімія, технологія речовин та їх застосування, 2000
Journal/Collection: Вісник Державного університету «Львівська політехніка»
Issue: 388 : Хімія, технологія речовин та їх застосування
Issue Date: 25-Jan-2000
Publisher: Видавництво Державного університету “Львівська політехніка”
Place of the edition/event: Львів
Lviv
Number of pages: 6
Page range: 9-14
Start page: 9
End page: 14
Abstract: Стаття присвячена деяким аспектам використання фотоініціюючої полімеризації у різних галузях промисловості, в яких її успішно застосовують. Процес застосовується під час полімеризації жорстких мономерів, олігомерів і преполімерів, які структуруються під впливом УФ-опромінення видимого спектру (350-600 нм).
This paper deals with some aspects of application of photocuring within the different industrial sectors, where this technology: has successfully been implemented. Photocuring means to harden (crosslink) monomers, oligomers and prepolymers and dry varnish or plastic with the influence of UV and/or visible (350-600 nm) radiation.
URI: https://ena.lpnu.ua/handle/ntb/48288
Copyright owner: © Державний університет “Львівська політехніка”, 2000
© Julita Jakubiak and J.F. Rabek, 2000
References (International): 1. H.P. Seng, Proc. RadTech Europe 93, Mediterraneo, p. 912 (1991).
2. C. becker, Proc. RadTech Europe 93, Mediterraneo, p: 2 (1991).
3. K.K. Dietliker, Chemistrj and Technology U V and EB Formulation for Coatings, Inks and Paints (P.K.T. Oldring), Vd. Ill, Photoinitiators for Free Radical and Cationic Polymerization, SITA Tech. Ltd. London, 1991.
4. J.P. Fouassier, Photoinitiation, Photopolymerization and Photocuring: Fundamentals and Applications Hanser, Munich, 1995, p. 246.
5. J.P. Fouassier, J.F. Rabek (eds), Radiation Curing in Polymer Science and Technology, Vol. 11, Photoinitiating Systems, Elsevier Applied Science, London, 1993.
6. J.F. Rabek, Mechanisms of Photophysical Processes and Photochemical Reactions in Polymers, Wiley, London, 1987.
7. J. Jakubiak, J.F. Rabek, Polimery, 44, 448 (1999).
8. J.P. Fouassier, J.F. Rabek, Lasers in Polymer Science and Technology, Vol. Ill, CRC Press, Boca Raton, 1990.
9. M. Castle, R.K. Sadhir, in Lasers in Polymer Science and Technology (J.P. Foiiaśsięr, J.F. Rabek, eds), Vol 111, CRC Press, Boca Raton, 1990, p. 37.
10. G. Delzenne, Proc. RadTech Europe 93, Mediterraneo, p. 409 (1991).
11. L.k Linden, Proc. RadTech Europe 93, Mediterraneo, p. 557 (1991).
12. L. A Linden, in Radiation Curing in Polymer Science and Technology>, Vol IV, Practical Aspects and Applications (J.P. Fouassier, J.F. Rabek, eds) , Elsevier Applied Science, London, 1993, p. 387.
13. L. A Linden, Polymeric Materials Encyclopedia, (J.C.Salamone, ed), Vol. 3, 1854 (1996).
14. M. Braden, R.L. Clarke, J. Nicholson, S. Parker. Polymeric Dental Materials, Springer, Berlin, 1997.
15. A.M. Horton, in Radiation Curing in Polymer Science and Technology, Vol IV, Practical Aspects and Applications (J.P. Fouassier, J.F. Rabek, eds), Elsevier Applied Science, London, 1993, p. 133.
16. M. Fallon, Plastic Technol, (2) 78 (1989).
17. K.F. Lindsay, Modern Plastic, (8) 40 (1990).
18. R.W. Peijfer, Proc. RadTech Europe 93, Mediterraneo,p. 452 (1991).
19. J. Flach, R. Chartoff, Proc. RadTech North America 90, Chicago, vol 2, p. 52 (1990).
20. R. Chartoff, L. Flach, Proc. RadTech Europe 93, Mediterraneo, p. 471 (1991).
21. R.W. Stowe, in Radiation Curing in Polymer Science and Technology, Vol. IV, Practical Aspects and Applications (J.P. Fouassier, J.F. Rabek, eds), Elsevier Applied Science, London, 1993, p. 179.
22. 15. T. Bernhard, M. Hofmann, M. Hunziker, B. Klingert, A. Schulthess, in Radiation Curing in Polymer Science and Technology, Vol. IV, Practical Aspects and Applications (J.P. Fouassier, J.F. Rabek, eds), Elsevier Applied Science, London, 1993, p. 195.
23. M. Cabrera, J.Y. Jezecjuel, J.C. Andre, in Lasers in Polymer Science and Technology (J.P. Fouassier, J.F. Rabek, eds), Vol 111, CRC Press, Boca Raton, 1990, p. 73,.
24. K. Arita and A. Ikeda, Abstract of papers, 2nd lntern.Conf.on Rapid Prototyping, Dayton, OH, 1991, p. 23.
25. C. Hull, Abstract of papers, 2nd Intern. Conf. on Rapid Prototyping, Dayton, OH, 1991, p. 211.
26. W. Vancraen, B. Swaelens, RadTech Europe 95, Maastrich, p. 624 (1995).
27. B. Ranby, J.F. Rabek, Photodegradation, Photooxidation and Photostabilization of Polymers, Wiley, London, 1975.
28. J.F. Rabek, Photodegradation of Polymers: Mechanisms and Experimental Methods, Chapman and Hall, London, 1995.
29. J.F. Rabek, Photodegradation of Polymers: Physical Characteristics and Applications, Springer, Berlin, 1996.
30. J.F. Rabek, Photostabilization of Polymers: Principles and Applications, Elsevier Applied Science, London, 1990
Content type: Article
Appears in Collections:Хімія, технологія речовин та їх застосування. – 2000. – № 388

Files in This Item:
File Description SizeFormat 
2000n388_Jakubiak_J-Industrial_applications_of_9-14.pdf342.38 kBAdobe PDFView/Open
Show full item record


Items in DSpace are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.