Skip navigation
DSpace logo
  1. Електронний науковий архів Науково-технічної бібліотеки Національного університету "Львівська політехніка"
  2. Електронний архів Науково-технічної бібліотеки
  3. Вісники та науково-технічні збірники, журнали
  4. Chemistry & Chemical Technology
  5. Chemistry & Chemical Technology. – 2019. – Vol. 13, No. 3

putin IS MURDERER

Please use this identifier to cite or link to this item: https://oldena.lpnu.ua/handle/ntb/46492
Title: Low-Pressure Discharge Plasma Treatment of Aqueous Solutions with Mn, Cr and Fe
Other Titles: Оброблення плазмовим розрядом пониженого тиску водних розчинів, що містять Mn, Cr ТА Fe
Authors: Pivovarov, Oleksandr
Derkach, Tetiana
Skiba, Margarita
Affiliation: Ukrainian State University of Chemical Technology
Kyiv National University of Technologies and Design
Bibliographic description (Ukraine): Pivovarov O. Low-Pressure Discharge Plasma Treatment of Aqueous Solutions with Mn, Cr and Fe / Oleksandr Pivovarov, Tetiana Derkach, Margarita Skiba // Chemistry & Chemical Technology. — Lviv : Lviv Politechnic Publishing House, 2019. — Vol 13. — No 3. — P. 317–325.
Bibliographic description (International): Pivovarov O. Low-Pressure Discharge Plasma Treatment of Aqueous Solutions with Mn, Cr and Fe / Oleksandr Pivovarov, Tetiana Derkach, Margarita Skiba // Chemistry & Chemical Technology. — Lviv : Lviv Politechnic Publishing House, 2019. — Vol 13. — No 3. — P. 317–325.
Is part of: Chemistry & Chemical Technology, 3 (13), 2019
Issue: 3
Issue Date: 28-Feb-2019
Publisher: Видавництво Львівської політехніки
Lviv Politechnic Publishing House
Place of the edition/event: Львів
Lviv
Keywords: оброблення плазмовим розрядом пониженого тиску
окисно-відновні реакції
утворення гідроген пероксиду
відновлення
окиснення
low-pressure glow discharge plasma treatment
redox reactions
peroxide formation
reduction
oxidation
Number of pages: 9
Page range: 317-325
Start page: 317
End page: 325
Abstract: Досліджено вплив тліючого розряду пониженого тиску на утворення гідроген пероксиду та зміну ступеню окиснення металів у водних розчинах сполук Мn, Cr та Fe. Показано, що плазмове оброблення спричиняє від- новлення Мn(VII) через Mn(IV) до Mn(II), Cr(VI) до Cr(III) та окиснення Fe(II) до Fe(III). Гідроген пероксид, що утворюється під дією плазмового оброблення, активно бере участь в окисно- відновних реакціях. Концентрація гідроген пероксиду зазвичай збільшується з часом оброблення, однак виявити його наяв- ність стає можливим тільки після закінчення перебігу ак- тивних окисно-відновних процесів.
The effect of low-pressure glow discharge on the formation of peroxide and the degree of oxidation of Mn, Cr and Fe was studied in the aqueous solutions of different compounds. The plasma treatment causes the reduction of Mn(VII) through Mn(IV) to Mn(II), Cr(VI) to Cr(III) and oxidation of Fe(II) to Fe(III). Among other reactive species, peroxide formed under the action of plasma treatment takes an active part in redox reactions. The concentration of peroxide usually increases with treatment time, but its presence is detected only after completion of active redox processes.
URI: https://ena.lpnu.ua/handle/ntb/46492
Copyright owner: © Національний університет „Львівська політехніка“, 2019
© Pivovarov O., Derkach T., Skiba M., 2019
URL for reference material: https://doi.org/10.1063/1.4823530
https://doi.org/10.1002/mas.21460
https://doi.org/10.1007/BF02757765
https://doi.org/10.1002/ppap.200700154
https://doi.org/10.1016/j.cej.2013.09.090
https://doi.org/10.1016/j.tifs.2015.06.005
https://doi.org/10.1016/j.watres.2010.03.020
https://doi.org/10.1134/S0018143913040115
https://doi.org/10.1007/s11814-015-0292-7
https://doi.org/10.6060/tcct.20165912.5413
https://doi.org/10.1063/1.4978833
https://doi.org/10.1021/ie701759y
https://doi.org/10.1016/j.cej.2014.10.064
https://doi.org/10.23939/chcht09.01.095
https://doi.org/10.1134/S0018143912010079
https://doi.org/10.1088/0022-3727/40/9/021
https://doi.org/10.1134/S0018143909030011
https://doi.org/10.1109/TPS.2016.2547841
https://doi.org/10.1134/S1070363215050497
https://doi.org/10.1088/1742-6596/646/1/012052
https://doi.org/10.1038/srep38454
https://doi.org/10.3103/S1068375513060100
http://hdl.handle.net/1854/LU-2125069
https://doi.org/10.1063/1.4871475
https://doi.org/10.1023/A:1025704930260
References (Ukraine): 1. Ishijima T., Nosaka K., Tanaka Y. et al.: Appl. Phys. Lett., 2013, 103, 142101. https://doi.org/10.1063/1.4823530
2. Vorobyova M., Pivovarov O.: Voprosy Khim. Khim. Tekhnol., 2014, 3, 19.
3. Mariotti D., Sankaran R. et al.: J. Phys. D, 2011, 44, 174023. https://doi.org/10.1063/1.4823530
4. SmoluchM., Mielczarek P., Silberring J.:Mass Spectrom. Rev., 2016, 35, 22. https://doi.org/10.1002/mas.21460
5. Chmilenko F., Derkach T., Smityuk A.: J. Anal. Chem., 2000, 55, 327. https://doi.org/10.1007/BF02757765
6. Chmilenko F., Pivovarov A., Derkach T. et al.: J. Anal. Chem., 1997, 52, 311.
7. Fridman G., Friedman G., Gutsol A. et al.: Plasma Proc. Polym., 2008, 5, 503. https://doi.org/10.1002/ppap.200700154
8. Jiang B., Zheng J., Qiu S. et al.: Chem. Eng. J., 2014, 236, 348. https://doi.org/10.1016/j.cej.2013.09.090
9. Misra N.: Trends Food Sci. Tech., 2015, 45, 229. https://doi.org/10.1016/j.tifs.2015.06.005
10. MagureanuM., Piroi D., Mandache N. et al.:Water Research, 2010, 44, 3445. https://doi.org/10.1016/j.watres.2010.03.020
11. Shutov D., Isakina A., Konovalov A. et al.: High Energ. Chem., 2013, 47, 201. https://doi.org/10.1134/S0018143913040115
12. Bobkova E., Krasnov D., Sungurova A. et al.: Korean J. Chem. Eng., 2016, 33, 1620. https://doi.org/10.1007/s11814-015-0292-7
13. Choukourov A., Manukyan A., Shutov D. et al.: Izv. Vyssh. Uchebn. Zaved. Khim. Khim. Tekhnol., 2016, 59, 4. https://doi.org/10.6060/tcct.20165912.5413
14. Ramli N., Zaaba S., MustaffaM. et al.: AIP Conf. Proc., 2017, 1824, 030015-1. https://doi.org/10.1063/1.4978833
15. Brisset J.-L., Moussa D., Doubla A. et al.: Ind. Eng. Chem. Res., 2008, 47, 5761. https://doi.org/10.1021/ie701759y
16. Jiang B., Guo J., Wang Z. et al.: Chem. Eng. J., 2015, 262, 1144. https://doi.org/10.1016/j.cej.2014.10.064
17. Pivovarov O., Zakharov R., NikolenkoM.: Chem. Chem. Technol., 2015, 9, 95. https://doi.org/10.23939/chcht09.01.095
18. Bobkova E., Shikova T., Grinevich V. et al.: High Energ. Chem., 2012, 46, 56. https://doi.org/10.1134/S0018143912010079
19. De Baerdemaeker F., SimekM., Leys C.: J. Phys. D, 2007, 40, 2801. https://doi.org/10.1088/0022-3727/40/9/021
20. Maksimov A., Khlyustova A.: High Energ. Chem., 2009, 43, 149. https://doi.org/10.1134/S0018143909030011
21. Zhao Y., Wang T., WilsonM. et al.: IEEE Transact. Plasma Sci., 2016, 44, 2084. https://doi.org/10.1109/TPS.2016.2547841
22. Pivovarov A., Kravchenko A., Tishchenko A. et al.: Russ. J. Gen. Chem., 2015, 85, 1339. https://doi.org/10.1134/S1070363215050497
23. Pivovarov A., Nikolenko N., Zakharov R. et al.: Voprosy Khim. Khim. Tekhnol., 2012, 3, 127.
24. Go D.: J. Phys. Conf. Series, 2015, 646, 012052. https://doi.org/10.1088/1742-6596/646/1/012052
25. Liu J., He B., Chen Q. et al.: Sci. Rep., 2016, 6, 38454. https://doi.org/10.1038/srep38454
26. Silkin S.: Elektronnaya ObrabotkaMater., 2014, 50, 106.
27. Pivovarov A., Zakharov R., Nikolenko N.: Voprosy Khim. Khim. Tekhnol., 2013, 3, 174.
28. Kuz’micheva L., Titova Yu., Maksimova A. et al.: Surf. Eng. Appl. Electrochem., 2013, 49, 485. https://doi.org/10.3103/S1068375513060100
29. Kuz’micheva L., Titova Yu., Maksimova A.: Elektronnaya ObrabotkaMater., 2007, 2, 20.
30. Xiong R., Nikiforov A., Vanraes P. et al.: J. Adv. Oxid. Technol., 2012, 15, 197. http://hdl.handle.net/1854/LU-2125069
31. Miyahara T., Oizumi M., Nakatani T. et al.: AIP Adv., 2014, 4, 047115. https://doi.org/10.1063/1.4871475
32. Kutepov A., Zakharov A., Maksimov A., Titov V.: High Energ. Chem., 2003, 37, 317. https://doi.org/10.1023/A:1025704930260
33. Kuz’micheva L., Maksimova A., Titova Yu.: Elektronnaya ObrabotkaMater., 2005, 5, 47.
References (International): 1. Ishijima T., Nosaka K., Tanaka Y. et al., Appl. Phys. Lett., 2013, 103, 142101. https://doi.org/10.1063/1.4823530
2. Vorobyova M., Pivovarov O., Voprosy Khim. Khim. Tekhnol., 2014, 3, 19.
3. Mariotti D., Sankaran R. et al., J. Phys. D, 2011, 44, 174023. https://doi.org/10.1063/1.4823530
4. SmoluchM., Mielczarek P., Silberring J.:Mass Spectrom. Rev., 2016, 35, 22. https://doi.org/10.1002/mas.21460
5. Chmilenko F., Derkach T., Smityuk A., J. Anal. Chem., 2000, 55, 327. https://doi.org/10.1007/BF02757765
6. Chmilenko F., Pivovarov A., Derkach T. et al., J. Anal. Chem., 1997, 52, 311.
7. Fridman G., Friedman G., Gutsol A. et al., Plasma Proc. Polym., 2008, 5, 503. https://doi.org/10.1002/ppap.200700154
8. Jiang B., Zheng J., Qiu S. et al., Chem. Eng. J., 2014, 236, 348. https://doi.org/10.1016/j.cej.2013.09.090
9. Misra N., Trends Food Sci. Tech., 2015, 45, 229. https://doi.org/10.1016/j.tifs.2015.06.005
10. MagureanuM., Piroi D., Mandache N. et al.:Water Research, 2010, 44, 3445. https://doi.org/10.1016/j.watres.2010.03.020
11. Shutov D., Isakina A., Konovalov A. et al., High Energ. Chem., 2013, 47, 201. https://doi.org/10.1134/S0018143913040115
12. Bobkova E., Krasnov D., Sungurova A. et al., Korean J. Chem. Eng., 2016, 33, 1620. https://doi.org/10.1007/s11814-015-0292-7
13. Choukourov A., Manukyan A., Shutov D. et al., Izv. Vyssh. Uchebn. Zaved. Khim. Khim. Tekhnol., 2016, 59, 4. https://doi.org/10.6060/tcct.20165912.5413
14. Ramli N., Zaaba S., MustaffaM. et al., AIP Conf. Proc., 2017, 1824, 030015-1. https://doi.org/10.1063/1.4978833
15. Brisset J.-L., Moussa D., Doubla A. et al., Ind. Eng. Chem. Res., 2008, 47, 5761. https://doi.org/10.1021/ie701759y
16. Jiang B., Guo J., Wang Z. et al., Chem. Eng. J., 2015, 262, 1144. https://doi.org/10.1016/j.cej.2014.10.064
17. Pivovarov O., Zakharov R., NikolenkoM., Chem. Chem. Technol., 2015, 9, 95. https://doi.org/10.23939/chcht09.01.095
18. Bobkova E., Shikova T., Grinevich V. et al., High Energ. Chem., 2012, 46, 56. https://doi.org/10.1134/S0018143912010079
19. De Baerdemaeker F., SimekM., Leys C., J. Phys. D, 2007, 40, 2801. https://doi.org/10.1088/0022-3727/40/9/021
20. Maksimov A., Khlyustova A., High Energ. Chem., 2009, 43, 149. https://doi.org/10.1134/S0018143909030011
21. Zhao Y., Wang T., WilsonM. et al., IEEE Transact. Plasma Sci., 2016, 44, 2084. https://doi.org/10.1109/TPS.2016.2547841
22. Pivovarov A., Kravchenko A., Tishchenko A. et al., Russ. J. Gen. Chem., 2015, 85, 1339. https://doi.org/10.1134/S1070363215050497
23. Pivovarov A., Nikolenko N., Zakharov R. et al., Voprosy Khim. Khim. Tekhnol., 2012, 3, 127.
24. Go D., J. Phys. Conf. Series, 2015, 646, 012052. https://doi.org/10.1088/1742-6596/646/1/012052
25. Liu J., He B., Chen Q. et al., Sci. Rep., 2016, 6, 38454. https://doi.org/10.1038/srep38454
26. Silkin S., Elektronnaya ObrabotkaMater., 2014, 50, 106.
27. Pivovarov A., Zakharov R., Nikolenko N., Voprosy Khim. Khim. Tekhnol., 2013, 3, 174.
28. Kuz’micheva L., Titova Yu., Maksimova A. et al., Surf. Eng. Appl. Electrochem., 2013, 49, 485. https://doi.org/10.3103/S1068375513060100
29. Kuz’micheva L., Titova Yu., Maksimova A., Elektronnaya ObrabotkaMater., 2007, 2, 20.
30. Xiong R., Nikiforov A., Vanraes P. et al., J. Adv. Oxid. Technol., 2012, 15, 197. http://hdl.handle.net/1854/LU-2125069
31. Miyahara T., Oizumi M., Nakatani T. et al., AIP Adv., 2014, 4, 047115. https://doi.org/10.1063/1.4871475
32. Kutepov A., Zakharov A., Maksimov A., Titov V., High Energ. Chem., 2003, 37, 317. https://doi.org/10.1023/A:1025704930260
33. Kuz’micheva L., Maksimova A., Titova Yu., Elektronnaya ObrabotkaMater., 2005, 5, 47.
Content type: Article
Appears in Collections:Chemistry & Chemical Technology. – 2019. – Vol. 13, No. 3

Files in This Item:
File Description SizeFormat 
2019v13n3_Pivovarov_O-Low_Pressure_Discharge_317-325.pdf498.42 kBAdobe PDFView/Open
2019v13n3_Pivovarov_O-Low_Pressure_Discharge_317-325__COVER.png551.71 kBimage/pngView/Open
Show full item record


Items in DSpace are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.