Skip navigation

putin IS MURDERER

Please use this identifier to cite or link to this item: https://oldena.lpnu.ua/handle/ntb/37803
Title: Obtaining of high purity amorphous silicon dioxide from rice husk
Other Titles: Одержання аморфного силіцій(IV) оксиду підвищеної чистоти із рисового лушпиння
Authors: Gridneva, Tatiana
Kravchenko, Alexander
Barsky, Vadim
Gurevina, Natalia
Bibliographic description (Ukraine): Obtaining of high purity amorphous silicon dioxide from rice husk / Tatiana Gridneva, Alexander Kravchenko, Vadim Barsky, Natalia Gurevina // Chemistry & Chemical Technology. – 2016. – Volume 10, number 4. – P. 499–505. – Bibliography: 6 titles.
Issue Date: 2016
Publisher: Publishing House of Lviv Polytechnic National University
Keywords: amorphous silicon dioxide
rice husk
extraction
lignin
cellulose
mechanism
hypothesis
аморфний силіцій(IV) оксид
рисове лушпиння
екстрагування
лігнін
целюлоза
механізм
гіпотеза
Abstract: Using maximum extraction of carbon-containing components the content of amorphous silicon dioxide was increased in the rice husk solid residue. In accordance with the hypothesis about the mechanism of extracting carbon-containing components from rice husk by liquid extractants, proper extractants were selected. The effect of main technological factors including a process temperature, time and concentration of the extractants was determined. Внаслідок максимального вилучення карбон-вмісних компонентів, підвищено вміст аморфного силіцій(IV) оксиду у твердому залишку рисового лушпиння. Вибрано екстрагенти відповідно до гіпотези про механізм екстрагування карбонвмісних компонентів з рисового лушпиння рідкими екстрагентами. Встановлено вплив основних технологічних чинників: температура, час процесу та концентрація екстрагенту.
URI: https://ena.lpnu.ua/handle/ntb/37803
Content type: Article
Appears in Collections:Chemistry & Chemical Technology. – 2016. – Vol. 10, No. 4

Files in This Item:
File Description SizeFormat 
17_115-121.pdf158.74 kBAdobe PDFView/Open
Show full item record


Items in DSpace are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.