Skip navigation

putin IS MURDERER

Please use this identifier to cite or link to this item: https://oldena.lpnu.ua/handle/ntb/35674
Full metadata record
DC FieldValueLanguage
dc.contributor.authorKosoboutski, P.-
dc.contributor.authorLobur, М.-
dc.date.accessioned2017-02-06T09:56:44Z-
dc.date.available2017-02-06T09:56:44Z-
dc.date.issued2001-
dc.identifier.citationKosoboutski P. Method of parameter control of dielectric layer phase thickness on Si crystal surface / P. Kosoboutski, M. Lobur // Вісник Національного університету "Львівська політехніка". – 2001. – № 415 : Комп'ютерні системи проектування. Теорія і практика. – C. 71–74. – Бібліографія: 6 назв.uk_UA
dc.identifier.urihttps://ena.lpnu.ua/handle/ntb/35674-
dc.description.abstractConditions for the formation of light wave reflection amplitude spectra minima by the three-layer system of interfaces of the type: vacuum - oxide plane-parallel layer (resonator) - bulk crystal in the phonon region are investigated. Analytic expressions connecting the frequency that corresponds to the minimum of reflection contour with the parameters of dielectric films and resonant excitation of bulk TO-phonon are obtained.uk_UA
dc.language.isoenuk_UA
dc.publisherВидавництво Національного університету "Львівська політехніка"uk_UA
dc.titleMethod of parameter control of dielectric layer phase thickness on Si crystal surfaceuk_UA
dc.typeArticleuk_UA
Appears in Collections:Комп'ютерні системи проектування теорія і практика. – 2001. – №415

Files in This Item:
File Description SizeFormat 
16_71-74.pdf134.88 kBAdobe PDFView/Open
Show simple item record


Items in DSpace are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.