| DC Field | Value | Language |
|---|
| dc.contributor.author | Ромака, Володимир | - |
| dc.contributor.author | Стадник, Юрій | - |
| dc.contributor.author | Ромака, Віталій | - |
| dc.contributor.author | Корж, Роман | - |
| dc.contributor.author | Крайовський, Володимир | - |
| dc.date.accessioned | 2014-12-26T13:07:07Z | - |
| dc.date.available | 2014-12-26T13:07:07Z | - |
| dc.date.issued | 2014 | - |
| dc.identifier.citation | Прогнозування характеристик термометричного матеріалу Hf1-x Lux NiSn / Володимир Ромака, Юрій Стадник, Віталій Ромака, Роман Корж, Володимир Крайовський // Вимірювальна техніка та метрологія : міжвідомчий науково-технічний збірник / Національний університет "Львівська політехніка" ; відповідальний редактор Б. І. Стадник. – Львів : Видавництво Національного університету "Львівська політехніка", 2014. – Випуск 75. – С. 85–88. – Бібліографія: 4 назви. | uk_UA |
| dc.identifier.uri | https://ena.lpnu.ua/handle/ntb/25776 | - |
| dc.description.abstract | Проведено розрахунок електронної структури та кінетичних характеристик термометричного матеріалу Hf1-xLuxNiSn у діапазонах: T = 80 ¸ 400 K, Lu 1.9 1020 NA » × см-3 ( x = 0,01)÷1.9×1021 см-3 ( x = 0.10 ). Показано, що характеристики матеріалу Hf1-xLuxNiSn чутливі до зміни температури і він може бути основою для виготовлення чутливих елементів термоперетворювачів. Проведен расчет электронной структуры и кинетических характеристик термометрического материала Hf1-xLuxNiSn в диапазонах: T = 80 ¸ 400 K, Lu 1.9 1020 NA » × см-3 ( x = 0,01) ÷ 1.9×1021 см3 ( x = 0.10 ). Показано, что характеристики материала Hf1-xLuxNiSn чувствительны к изменению температуры и он может быть основой для изготовления чувствительных элементов термопреобразователей. The Hf1-xLuxNiSn thermometric material was characterized by the electronic structure calculations and electron transport characteristics in the range: T = 80 ¸ 400 K, Lu 1.9 1020 NA » × cm-3 ( x = 0.01)÷1.9×1021 cm-3 ( x = 0.10 ). The material is sensitive to the temperature change and could be used as the basis for the sensitive thermoelectric devices. | uk_UA |
| dc.language.iso | ua | uk_UA |
| dc.publisher | Видавництво Львівської політехніки | uk_UA |
| dc.title | Прогнозування характеристик термометричного матеріалу Hf1-x Lux NiSn | uk_UA |
| dc.type | Article | uk_UA |
| Appears in Collections: | Вимірювальна техніка та метрологія. – 2014. – Випуск 75
|
