https://oldena.lpnu.ua/handle/ntb/23554
Title: | Point defects and physico-chemical properties of crystals in Pb-Bi-Te system |
Other Titles: | Точкові дефекти та фізико-хімічні властивості кристалів у системі Pb-BI-Te |
Authors: | Freik, Dmytro Turovska, Liliya |
Bibliographic description (Ukraine): | Freik D. Point defects and physico-chemical properties of crystals in Pb-Bi-Te system / Dmytro Freik, Liliya Turovska // Chemistry & Chemical Technology. – 2013. – Volume 7, number 4. – P. 375–380. – Bibliography: 14 titles. |
Issue Date: | 2013 |
Publisher: | Publishing House of Lviv Polytechnic National University |
Keywords: | lead telluride doping solid solution point defects crystalquasichemical formula defect formation плюмбум телурид легування твердий розчин точковий дефект кристалоквазіхімічна формула дефектоутворення |
Abstract: | Within crystalquasichemical formalism models of point defects of crystals in the Pb-Bi-Te system have been specified considering the amphoteric action of impurities in bismuth doped lead telluride PbTe:Bi, and solid solution formation mechanisms for РbТе-ВіТе and РbТе-Ві2Те3 have been examined.Dependences of Hall concentration and the concentration of point defects on the composition and the initial deviation from stoichiometry in the basic matrix have been calculated. У рамках кристалоквазіхімічного формалізму уточнено моделі точкових дефектів кристалів у системі Pb-Ві-Te з урахуванням амфотерної дії домішки в легованому вісмутом плюмбум телуриді PbTe:Bi та розглянуто механізми утворення твердих розчинів РbТе-ВіТе і РbТе-Ві2Те3. Розраховано залежності холлівської концентрації та концентрації точкових дефектів від складу і початкового відхилення від стехіометрії в основній матриці. |
URI: | https://ena.lpnu.ua/handle/ntb/23554 |
Content type: | Article |
Appears in Collections: | Chemistry & Chemical Technology. – 2013. – Vol. 7, No. 4 |
File | Description | Size | Format | |
---|---|---|---|---|
4-375-380.pdf | 470.56 kB | Adobe PDF | View/Open |
Items in DSpace are protected by copyright, with all rights reserved, unless otherwise indicated.